研創(chuàng )園激光芯片公公技術(shù)服務(wù)平臺位于南京市浦口區西華北路1 號,項目建筑面積6309.79m2,其中萬(wàn)級區1535m2,千級區 1134m2,百級區21m2。配電房、機組間、特氣間、純水間、廢 水間等輔助功能間3234m2。合同額3299萬(wàn),工期100天。 項目包含:潔凈系統、消防、PCW、CDA、PV、有機排風(fēng)、無(wú)機 排風(fēng)、熱排風(fēng)、純水系統、廢水系統、冷熱源系統、DCC系統、 弱電系統。
萬(wàn)級區采用的是AHU+高效箱的方式,溫濕度要求為:22±1℃,50±5%RH。
千級區采用的是MAU+DCC+FFU的方式,溫濕度要求為:22±0.5℃,45±3%RH,光刻間溫濕度要求為:22±0.5℃,
40±3%RH,每小時(shí)變化率不高于±0.1℃。